ข้ามไปเนื้อหา

ผลต่างระหว่างรุ่นของ "การตกตะกอนและเคลือบผิวด้วยวิธีการอาร์คของแคโทด"

== '''การออกแบบอุปกรณ์''' ==
[[ไฟล์:ArcSource_SablevType.jpg|thumb|right|หัวจ่ายสารโดยการอาร์คของแคโทด ในประเภทที่ออกแบบโดย Sablev ชนิดที่มีการใช้แม่เหล็ก เพื่อควบคุมการเคลื่อนที่ของจุดอาร์ค]]
หัวจ่ายสารสำหรับกระบวนการอาร์คของแคโทด ที่ออกแบบโดย Sablev ซึ่งเป็นที่นิยมใช้กันมากในโลกตะวันตกนั้น ประกอบด้วย target รูปทรงกระบอกสั้นทำจากวัสดุนำไฟฟ้าได้ที่มีด้านเปิดด้านหนึ่ง target นี้จะมีแหวนโลหะที่แขวนลอยอยู่ในสนามไฟฟ้า (Electrically floated) อยู่ครอบอีกทีหนึ่งเพื่อทำหน้าที่เป็นแหวนควบคุมการอาร์ค (เรียกว่า Confinement ring หรือ Strel'nitskij shield) ขั้ว[[แอโนด]]ของระบบอาจเป็นผนังเตาสุญญากาศที่ใช้ในการเคลือบหรืออาจเป็นขั้วที่ทำมาแยกโดยเฉพาะก็ได้ อาร์คจะถูกจุดด้วยการใช้ที่เคาะ (Trigger , Igniter) ที่ควบคุมด้วยวิธีกลเคาะลงไปบน Target ณ ด้านที่เปิดอยู่ ทำให้เกิด[[การลัดวงจร]]ขึ้นชั่วคราวระหว่างแอโนดและแคโทด เพื่อให้เกิดจุดอาร์ค (Arc spot) หลังจากนั้น อาร์คที่เกิดขึ้นจะเคลื่อนที่แบบมีการควบคุม (ถ้ามีสนามแม่เหล็ก) หรือเคลื่อนที่แบบสุ่ม (ถ้าไม่มีสนามแม่เหล็ก)
[[ไฟล์:AksenovQuaterTorusFilter.jpg|thumb|right|Filter แบบท่อที่โค้งงอ กวาดไปเป็นมุม 90 องศา สำหรับกรองอนุภาคขนาดใหญ่ที่ออกแบบโดย Aksenov ซึ่งพัฒนาขึ้มมาจากงานทาง Plasma Optics ของ A.I.Morozov]]
<br />
ผู้ใช้นิรนาม